যদিও উভয়কেই "অবক্ষয়" বলা হয়, তবে পিসিডি এবং সিভিডি কার্যকারিতায় ব্যাপকভাবে আলাদা।
2026-09-21
মূল কারণ:
PVD প্রধানত ভৌত উপায়ে উৎস উপাদানগুলি সরিয়ে দেয় এবং সেগুলিকে ওয়েফারের উপর পরিবহন করে।
CVD গ্যাসীয় পূর্বসূরীদের পৃষ্ঠে ক্রমাগত রাসায়নিক বিক্রিয়া ঘটাতে সক্ষম করে।
একটি প্রক্রিয়া নির্বাচন করার সময়, বিবেচনা করার আসল প্রশ্নগুলি হল উপাদানটি পৃষ্ঠে কীভাবে আসে, ফিল্মটি কোথায় গঠিত হয় এবং কোন প্রক্রিয়াটি বৃদ্ধি বন্ধ করে দেয়।
প্রক্রিয়া:
PVD: প্রথমে কঠিন উৎস থেকে উপাদানগুলি বের করে PVD হল ফিজিক্যাল ভেপার ডিপোজিশনের সাধারণ শব্দ।বাষ্পীভবন তাপ উৎস বা ইলেকট্রন বিম ব্যবহার করে উপাদানগুলিকে বাষ্পীভূত করে; স্পাটারিং লক্ষ্যবস্তুকে আঘাত করতে এবং লক্ষ্যবস্তুর পরমাণুগুলিকে বের করে দিতে প্লাজমা আয়ন ব্যবহার করে। ফিল্ম-গঠনকারী প্রজাতিগুলি ভ্যাকুয়ামে পরিবাহিত হয় এবং অবশেষে ওয়েফারের পৃষ্ঠে ঘনীভূত হয়।
CVD: গ্যাসগুলি পৃষ্ঠে পৌঁছানোর পরে ফিল্ম তৈরি করতে ক্রমাগত বিক্রিয়া করে CVD হল কেমিক্যাল ভেপার ডিপোজিশনের সংক্ষিপ্ত রূপ। পূর্বসূরীরা গ্যাস প্রবাহের সাথে ওয়েফারের কাছাকাছি ভ্রমণ করে, বাউন্ডারি লেয়ারের মধ্য দিয়ে যায়, তারপর পৃষ্ঠে শোষিত হয়, ভেঙে যায় বা বিক্রিয়া করে। কঠিন পদার্থ ওয়েফারের উপর জমা হয়, যখন উদ্বায়ী উপজাতগুলি নিষ্কাশিত হয়।