high temperature coating process equipment (47) অনলাইন প্রস্তুতকারক
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
অগ্রদূত এবং প্রক্রিয়া গ্যাস: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
অগ্রদূত এবং প্রক্রিয়া গ্যাস: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
লেপের প্রকারভেদ: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3,K-AI2O3
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
অগ্রদূত এবং প্রক্রিয়া গ্যাস: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
প্যাকেজিং বিবরণ: কাঠের কেস
ডেলিভারি সময়: 5-6 মাস
চুল্লি: ২ পিসি
সর্বোচ্চ তাপমাত্রা:: 1100℃
কার্যকর স্থান (মিমি): 1000*1000*1500
গরম করার শক্তি (KVA): 300
কার্যকর স্থান (মিমি): 1000*1000*1500
গরম করার শক্তি (KVA): 300
Workingspace: 12-1000L
সর্বাধিক।: 1、2、6、10、20
নাম: শিল্প ভ্যাকুয়াম ফার্নেস
বিশেষ উল্লেখ: RDE-GWL-5518
প্রতিক্রিয়া চেম্বার: 2 পিসি
সর্বোচ্চ তাপমাত্রা:: 1100℃
প্রতিক্রিয়া চেম্বার: 2 পিসি
সর্বোচ্চ তাপমাত্রা:: 1100℃
আবরণ পদ্ধতি: রাসায়নিক বাষ্প জবানবন্দি (সিভিডি)
সমস্ত ক্ষমতা: প্রায় 40/50/60/80 কেডব্লিউ
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
লেপের প্রকারভেদ: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3,K-AI2O3
প্রক্রিয়া তাপমাত্রা((℃): 700-1050
লেপের প্রকারভেদ: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3,K-AI2O3
আপনার জিজ্ঞাসা সরাসরি আমাদের কাছে পাঠান